TFT液晶屏的技术特点

TFT液晶屏的技术特点

TFT技术是二十世纪九十年代发展起来的，采用新材料和新工艺的大规模半导体全集成电路制造技术，是液晶(LC)、无机和有机薄膜电致发光(EL和OEL)平板显示屏的基础。其主要特点有：

1.大面积：九十年代初第一代大面积玻璃基板(300mm×400mm)TFT-LCD生产线投产，到2000年上半年玻璃基板的面积已经扩大到了680mm×880mm)，最近950mm×1200mm的玻璃基板也将投入运行。

2.高集成度：用于液晶投影的1.3英寸TFT芯片的分辨率为XGA含有百万个像素。分辨率为SXGA(1280×1024)的16.1英寸的TFT阵列非晶体硅的膜厚只有50nm，以及TABONGLASS和SYSTEMONGLASS技术，其IC的集成度，对设备和供应技术的要求，技术难度都超过传统的LSI。

3.功能强大：TFT最早作为矩阵选址电路改善了液晶的光阀特性。对于高分辨率显示屏，通过0-6V范围的电压调节(其典型值0.2到4V)，实现了对象元的精确控制，从而使LCD实现高质量的高分辨率显示成为可能。

4.低成本：玻璃基板和塑料基板从根本上解决了大规模半导体集成电路的成本问题，为大规模半导体集成电路的应用开拓了广阔的应用空间。

5.工艺灵活：除了采用溅射、CVD(化学气相沉积)MCVD(分子化学气相沉积)等传统工艺成膜以外，激光退火技术也开始应用，既可以制作非晶膜、多晶膜，也可以制造单晶膜。不仅可以制作硅膜，也可以制作其他的Ⅱ-Ⅵ族和Ⅲ-Ⅴ族半导体薄膜。

6.应用领域广泛，以TFT技术为基础的液晶平板显示屏是信息社会的支柱产业，也技术可应用到正在迅速成长中的薄膜晶体管有机电致发光(TFT-OLED)平板显示屏也在迅速的成长中。